技术指标

溅射室极限真空度：≤6.6x10-5Pa(经烘烤除气后)

系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S

系统从大气开始抽气：溅射室45分钟可达到6.6x10^-4 Pa

系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa

旋转基片台： 基片尺寸和数量：2英寸样品一次放置1片，小片样品可放多个；基片公转由调速电机驱动，5—10转/分连续可调，转动速度

样品台可加热（室温600度）

靶材：靶材尺寸：Φ60；珀金、钛 ；靶在上，向下溅射，具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能

主要功能

多室沉积镀膜

主要利用磁控溅射技术，在磁场作用下，使电子在靶材表面附近做螺旋运动，增加电子与气体分子的碰撞几率，从而产生高密度等离子体。等离子体中的正离子在电场作用下加速轰击靶材，使靶材原子溅射出来，并在基片表面沉积形成薄膜。通过精确控制溅射参数，如溅射功率、气体流量、沉积时间等，实现对纳米团簇磁性薄膜的成分、结构和性能的调控。

所在单位 物理与电子工程学院  

生产厂商 中国科学院沈阳科学仪器公司

型号规格 JGP450

联系人  刘豪

联系电话 18738375520   

收费标准 100元/时