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纳米团簇磁性成膜系统
2022-08-16 10:52   审核人:


技术指标

溅射室极限真空度:≤6.6x10-5Pa(经烘烤除气后)

系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S

系统从大气开始抽气:溅射室45分钟可达到6.6x10-4 Pa

系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa

旋转基片台: 基片尺寸和数量:2英寸样品一次放置1片,小片样品可放多个;基片公转由调速电机驱动,5—10转/分连续可调,转动速度

样品台可加热(室温-600度)

靶材:靶材尺寸:Φ60;珀金、钛 ;靶在上,向下溅射,具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能

主要功能

多室沉积镀膜

所在单位 物理与电子工程学院  

生产厂商 沈科仪

型号规格 沈科仪JGP450

联系人  刘豪

联系电话 17743125098   

收费标准 100元/时


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