技术指标

极限真空度：≤6.0x10-5 Pa

磁控溅射靶：2英寸*3

直流溅射电源：500W*2

射频溅射电源：500W*1

主要功能

设备用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研制备。系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成

所在单位 机电工程学院

生产厂商 中国科学院沈阳科学仪器公司

型号规格 定制JGP450

联系人  侯树森

联系电话 15738663100 

收费标准 200元/时